芝加哥聯邦陪審團於21日裁定，前飛利浦醫療系統公司（Philips Medical Systems）華裔工程師詹志義（Chih-Yee Jen，音譯） 涉嫌竊取公司X光管技術商業機密，並將相關資料提供予中國一家競爭企業，兩項罪名均成立。伊利諾州北區聯邦地方法院法官張德民（Edmond E. Chang）已將宣判日期定於明年1月5日。
綜合司法部新聞稿和醫療影像產業媒體Radiology Business 報道，現年71歲的詹志義居於威斯康辛州梅夸恩 （Mequon），曾任職於飛利浦位於伊利諾州奧羅拉 （Aurora）的工廠。該工廠多年來負責研發及製造電腦斷層（CT）醫療影像設備所使用的X光管，飛利浦旗下Dunlee品牌亦長期投入相關專利及專有技術的開發。
案件源於2017年飛利浦準備關閉奧羅拉工廠期間。中國的昆山國力電子科技有限公司（Kunshan GuoLi Electronic Technology Co Ltd）及其副總裁杜小琴（Du Xiaoqin，音譯）開始與詹志義接觸，計劃在美國成立子公司，與飛利浦競爭X光管的研發、製造及銷售。
檢方指出，詹志義當時仍受僱於飛利浦，卻從公司內部資料庫複製機密技術文件，並提供給昆山國力電子科技有限公司及杜小琴，之後又成功招攬多名飛利浦的工程師加入該中國企業在美國的子公司。
檢方表示，被竊取的資料其後被用於國力子公司的X光管技術研發。此案件最初於2020年代初由聯邦當局提出刑事指控，背景亦涉及飛利浦於2019年提起的民事訴訟。
除了詹志義外，兩名前飛利浦醫療系統公司工程師、均居於伊利諾州的滕迪安（Fince Tendian）及涅夫托尼科（Vladimir Nevtonenko）此前已認罪，承認持有遭竊取的商業機密，分別預定於今年12月8日及12月1日接受判刑。
案件另涉及昆山國力電子科技有限公司、其關聯企業昆山醫源醫療技術有限公司（Kunshan Yiyuan Medical Technology Co. Ltd）以及杜小琴。三者目前均被列入法院的逃犯案件排期表，尚未接受提審。
檢方強調，竊取商業機密不僅損害企業及員工的利益，也可能削弱美國關鍵科技研發及經濟安全。而聯邦調查局（FBI)則稱，此案凸顯美方將持續打擊涉及商業機密的經濟間諜活動，並保護美國私企的核心技術。本報訊