美媒報道：中國國產DUV光刻機今年投產 初期產量約五台

美國科技媒體報道，中國在自主研發的浸沒式深紫外光刻機（DUV）領域取得突破，已開始生產並計劃交付給國內主要晶片製造商。這項進展標誌著中國半導體設備國產化的重要一步，未來可能影響國際設備巨頭在中國市場的競爭格局。

本文核心內容：

• 中國已開始生產自主研發的浸沒式深紫外光刻機（DUV）。
• 預計今年內將交付給中芯國際、華虹半導體和長鑫存儲等國內晶片製造商。
• 國產DUV光刻機的初期產量較為有限，預計今年生產約五台，2027年產量約為二十台。

國產設備的市場潛力與挑戰

報道分析指，這一突破最終可能對半導體微影設備巨頭荷蘭阿斯麥在中國市場的地位構成挑戰。然而，報道同時指出，國產設備目前在性能和可靠性方面與國際領先水平仍有差距，在實現大規模量產前還需要進行進一步的測試與驗證。

產能規劃與行業影響

根據報道披露的產能規劃，國產DUV光刻機的生產將從低產量起步。預計今年的產量約為五台，到2027年，產量目標將提升至約二十台。這顯示出生產線正處於爬升階段，其穩定性與良率將是後續關注的焦點。